低溫恒溫水槽的精度和微處理技術(shù)

　　低溫恒溫水槽的精度和微處理技術(shù)
　　低溫恒溫水槽廣泛應(yīng)用于石油、華工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性測試及化學(xué)分析等研究部門、高等院校、工廠實(shí)驗室及計量質(zhì)檢部門，為用戶工作提供一個冷熱受控，溫度均勻的場源。
　　低溫恒溫水槽是采用微處理技術(shù)結(jié)合PID控制方式形成的高精度恒溫器與壓縮機(jī)制冷系統(tǒng)，結(jié)合而成的低溫恒溫水槽，而內(nèi)置的制冷和加熱系統(tǒng)可滿足用戶的不同需求。本機(jī)采用微電腦控溫，控溫精度高，在±0.1℃之內(nèi)，這是一般控溫系統(tǒng)無法達(dá)到的指標(biāo)。由于增加了內(nèi)置循環(huán)系統(tǒng)，使箱內(nèi)的液體溫度更趨均勻，性能穩(wěn)定可靠、操作簡便。工作區(qū)可采用500ml的燒杯，也可以根據(jù)需要使用更大的樣品容器，也可直接在水浴上測定粘度。
　　高精度低溫恒溫水槽和普通恒溫槽的區(qū)別在于對應(yīng)的型號尺寸沒有改變，但是溫度感應(yīng)器和顯示器精度均增高了。當(dāng)?shù)蜏睾銣厮奂訜釡囟瘸^100度時，使用的介質(zhì)是甲基硅油，zui高溫可達(dá)到300度。
　　低溫恒溫水槽中換熱設(shè)備設(shè)計的主要是根據(jù)設(shè)計的任務(wù)結(jié)合各類低溫恒溫水槽換熱設(shè)備的結(jié)構(gòu)和特點(diǎn)。選定設(shè)備形式必要時可同時選取幾種形式進(jìn)行初步結(jié)構(gòu)設(shè)計，通過技術(shù)經(jīng)濟(jì)等綜合比較確定zui終形式。也可根據(jù)選定的初步結(jié)構(gòu)形式以及其他參數(shù)，低溫恒溫水槽進(jìn)行傳熱計算、阻力計算以及強(qiáng)度計算。計算結(jié)果應(yīng)使結(jié)構(gòu)設(shè)計的傳熱面積與傳熱計算的傳熱面積相比有10％~20％的裕量，而計算壓陣小于允許壓降。在進(jìn)行強(qiáng)度計算時，要特別注意所用材料的溫度特性。許多材料的特性在低溫時與常溫時相差很大，此外設(shè)計時還應(yīng)遵循壓力容器的設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范。校核計算。還需進(jìn)行精心的機(jī)械設(shè)計，低溫恒溫水槽包括零部件尺寸的確定和強(qiáng)度鉸核、溫差腕力計算、熱補(bǔ)償力案確定等。
　　低溫恒溫水槽中換熱設(shè)備設(shè)計的前期準(zhǔn)備需要全面準(zhǔn)確地理解設(shè)低溫恒溫水槽計任務(wù)書對設(shè)計的要求，掌握工藝生產(chǎn)的某些條件如工作溫度、允許溫差壓力、允許壓降、工作流體的物理和化學(xué)性質(zhì)等。除此之外還應(yīng)包括設(shè)備熱負(fù)荷、低溫恒溫水槽可以提供的材料、加工條件等方面。這些資料是選型的依據(jù)、同時也是熱力計算的前提。對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻，單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻，激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。其他產(chǎn)業(yè)用機(jī)器發(fā)熱部分的冷卻，等離子熔接、自動包裝機(jī)、模具冷卻、洗凈機(jī)械、鍍金槽、精密研磨機(jī)、射出成型機(jī)、樹脂成型機(jī)的成型部分等。